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1
Organometallic Compounds of Aluminum, Gallium, Indium and Thallium
Springer US
J. D. Smith (auth.)
,
A. McKillop
,
J. D. Smith
,
I. J. Worrall (eds.)
synth
aluminum
thallium
cryst
soc
dimethyl
organomet
salt
9ci
methyl
diethyl
pmr
methylpropyl
colourless
complex
solid
dimer
nmr
diethylaluminum
dimethylaluminum
dialuminum
dimeric
pentafluorophenyl
struct
tert
liq
acetato
diphenylthallium
gallium
khim
cyclopentadien
tetramethylbis
methylphenyl
dimethylthallium
chlorobis
trimethylsilyl
trimethyl
tetrakis
raman
ether
ethyl
phenyl
phenylthallium
justus
trimethylaluminum
diphenyl
indium
oxide
liebigs
dichloro
Année:
1985
Langue:
english
Fichier:
PDF, 14.17 MB
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0
english, 1985
2
Chemistry of Atomic Layer Deposition
De Gruyter
Seán Thomas Barry
surface
precursor
figure
reaction
ligand
deposition
precursors
temperature
chemistry
thermal
ligands
bond
nucleation
layer
growth
saturation
decomposition
chemical
groups
hydroxyl
oxygen
reactivity
aluminum
monolayer
oxide
hydrogen
species
rate
tma
step
processes
cycle
chemisorption
bonding
alumina
mass
surfaces
undergo
methyl
reactions
target
stable
temperatures
atom
bonds
elimination
react
mld
oxidation
volatility
Année:
2021
Langue:
english
Fichier:
EPUB, 3.46 MB
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english, 2021
3
Chemistry of Atomic Layer Deposition
De Gruyter
Seán Thomas Barry
surface
precursor
figure
ligand
reaction
deposition
precursors
chemistry
temperature
thermal
ligands
saturation
nucleation
bond
layer
growth
decomposition
chemical
groups
processes
hydroxyl
oxygen
reactivity
aluminum
oxide
monolayer
hydrogen
species
rate
tma
step
bonding
cycle
chemisorption
alumina
surfaces
mass
undergo
reactions
methyl
mld
target
stable
temperatures
volatility
atom
atomic
bonds
elimination
react
Année:
2021
Langue:
english
Fichier:
PDF, 1.90 MB
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english, 2021
4
research 1..6
deposition
precursor
figure
film
reactor
valves
chamber
reaction
coreactant
systems
xxx
injection
walled
chemical
tube
surface
vacuum
valve
aluminum
thickness
films
sample
shown
undergraduate
alumina
chemistry
educ
heating
quartz
temperature
aligned
atomic
cycle
materials
qcm
growth
layer
purging
vertically
addition
cvd
cycles
furnace
horizontal
laboratory
reactions
substrates
xxxx
component
designed
Année:
2014
Fichier:
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2014
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