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3D IC Devices, Technologies, and Manufacturing
SPIE Press
Hong Xiao
figure
gate
etch
oxide
wafer
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silicon
dram
deposition
shown
nand
array
flash
polysilicon
dielectric
finfet
manufacturing
memory
devices
technology
bwl
shows
layers
deposited
nitride
processes
peripheral
nmos
cmos
planar
oxide_n
device
formation
scaling
cmp
sram
surface
stack
transistor
siox
pmos
nitride_n
patterning
chip
capacitor
spacer
staircase
periphery
dummy
blc
Année:
2016
Langue:
english
Fichier:
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SPIE Press
Hong Xiao
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siox
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