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3D IC Devices, Technologies, and Manufacturing
SPIE Press
Hong Xiao
figure
gate
etch
oxide
wafer
layer
silicon
dram
deposition
shown
nand
array
flash
polysilicon
dielectric
finfet
manufacturing
memory
devices
technology
bwl
shows
layers
deposited
nitride
processes
peripheral
nmos
cmos
planar
oxide_n
device
formation
scaling
cmp
sram
surface
stack
transistor
siox
pmos
nitride_n
patterning
chip
capacitor
spacer
staircase
periphery
dummy
blc
Année:
2016
Langue:
english
Fichier:
PDF, 34.15 MB
Vos balises:
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english, 2016
2
3D IC Devices, Technologies, and Manufacturing
SPIE Press
Hong Xiao
figure
gate
etch
oxide
wafer
layer
silicon
dram
deposition
shown
nand
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flash
polysilicon
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siox
pmos
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patterning
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capacitor
spacer
staircase
periphery
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blc
Année:
2016
Langue:
english
Fichier:
PDF, 37.83 MB
Vos balises:
0
/
5.0
english, 2016
3
Этюды
Хаевский Р.А.
,
Мучник Л.Л.
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ilb1
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ilb4
ilc2
Année:
2008
Langue:
russian
Fichier:
PDF, 5.39 MB
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russian, 2008
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